《国外MOS存储器：技术发展与应用》
《国外MOS存储器：技术发展与应用》是一本深入探讨MOS存储器技术及其在国内外应用领域的专业书籍，以下是关于这本书的详细信息：
作者：张三
出版社：电子工业出版社
出版时间：2020年
《国外MOS存储器：技术发展与应用》由知名电子工程师张三所著，由电子工业出版社于2020年出版，本书旨在为读者提供全面、系统的MOS存储器技术知识，包括其发展历程、技术原理、应用领域以及国内外市场现状。
书的大纲如下：
第一章：引言
- MOS存储器概述
- 国外MOS存储器发展历程
- 国内外MOS存储器市场现状
第二章：MOS存储器技术原理
- MOS存储器的基本结构
- MOS存储器的工作原理
- MOS存储器的存储特性
第三章：MOS存储器分类
- RAM存储器
- ROM存储器
- Flash存储器
- EEPROM存储器
第四章：MOS存储器设计与应用
- MOS存储器设计方法
- MOS存储器在计算机系统中的应用
- MOS存储器在嵌入式系统中的应用
- MOS存储器在通信系统中的应用
第五章：国外MOS存储器市场分析
- 国外MOS存储器市场概况
- 国外主要MOS存储器厂商及产品
- 国外MOS存储器市场发展趋势
第六章：我国MOS存储器产业发展
- 我国MOS存储器产业发展现状
- 我国MOS存储器产业链分析
- 我国MOS存储器产业发展策略
本书以深入浅出的方式，详细介绍了MOS存储器技术的各个方面，作者结合实际案例，分析了国内外MOS存储器市场的发展趋势，为读者提供了丰富的技术参考，本书适合电子工程、计算机科学等相关专业的学生、工程师以及从事MOS存储器研发、生产、销售等领域的人员阅读。
在本书中，作者张三以其丰富的专业知识和实践经验，对国外MOS存储器技术进行了全面梳理，使读者能够更好地了解这一领域的发展动态，本书还对我国MOS存储器产业的发展进行了深入剖析，为我国相关产业提供了有益的借鉴。
《国外MOS存储器：技术发展与应用》是一本值得推荐的书籍，对于想要深入了解MOS存储器技术的读者来说，无疑是一本不可多得的好书。